当前位置: 91金属 » 金属头条 »Sputtering
Sputtering

溅射靶材 什么是溅射靶材

超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的种,是制备电子薄膜材料的主要技术之,它利用离子源产生的离子,在高真空中...【详情】

金属靶材  溅射靶材  PVD  溅射  Sputtering   2019

 

91金属APP


    APP上看报价 方便、快捷
 
 
 
更多本周搜索排行
 
 
 
  100%正品保证 / 放心
【91金属承诺 货真价实】
  增值税专用发票 / 无忧
【提供正式增值税专用发票】
  货源可靠 / 可靠
【上市子公司及大型贸易商】
  安全仓储 / 省心
【上海飞平、中外运、中工美】