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三星自研出透光率达88%的EUV薄膜光罩防尘薄膜

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    来源:中国电子报、电子信息产业网    作者:编辑部  2023-01-17 16:04
导读

近日,有消息称,三星电子研发出了透光率高达88%的EUV光罩防尘薄膜,并且已经可以大规模生产,以应对未来需求,丰富供应链。据了解,EUV光罩防尘薄膜可以在晶圆制造过程中保护掩模免受灰尘影响,最大限度地减少工艺污染并减少光掩模损坏,对于5nm或以下节点制程的先进制程技术的良率表现至关重要。ASML在2016年首次开发出光罩防尘薄膜,当时的透光率为78%。在2018年,薄膜透光

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来源:中国电子报、电子信息产业网  编辑部

近日,有消息称,三星电子研发出了透光率高达88%的EUV光罩防尘薄膜,并且已经可以大规模生产,以应对未来需求,丰富供应链。

据了解,EUV光罩防尘薄膜可以在晶圆制造过程中保护掩模免受灰尘影响,最大限度地减少工艺污染并减少光掩模损坏,对于5nm或以下节点制程的先进制程技术的良率表现至关重要。

ASML在2016年首次开发出光罩防尘薄膜,当时的透光率为78%。在2018年,薄膜透光率提升至80%。在2021年5月,ASML透露,已经开始供应透光率超90%的光罩防尘薄,以提升EUV光刻机的效率。据悉,这款光罩防尘薄膜是ASML与Teradyne联合研发的,由日本三井化学代工,已经通过了400瓦测试,单价2.6万美元左右。

三星此前就表示,将在其3nm工艺中采用透光率超过90%的最新EUV光罩防尘薄膜以提高良率,这些光罩防尘薄膜将来自韩国公司S&S Tech。而此次三星成功自研出透射率为88%的光罩防尘薄膜,有望打破ASML和三井化学对EUV光罩防尘薄膜市场的垄断。三星还在积极投资韩国的材料厂商S&S TECH和FST,助力其在EUV光罩防尘薄膜方面的发展。预计,韩国EUV光罩防尘薄膜最早将在一到两年内实现商业化并应用于量产线。

此外,12月15日,同为韩国的半导体和显示材料开发商-石墨烯实验室(Graphene Lab)开发出了基于一款石墨烯制造的EUV光罩防尘薄膜。Graphene Lab表示,石墨烯制造的光罩保护膜比硅更薄、更透明。有望显著提高ASML的EUV系统生产芯片的良率。

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